電子工業(yè)廢水中的砷處理是一個(gè)重要的環(huán)保課題，因?yàn)樯槭且环N劇毒物質(zhì)，對(duì)環(huán)境和人體健康危害極大。以下是針對(duì)電子工業(yè)廢水砷處理系統(tǒng)的詳細(xì)解決方案：

1.廢水特性分析

砷的來(lái)源：電子工業(yè)中的砷主要來(lái)自半導(dǎo)體制造、液晶顯示器生產(chǎn)、太陽(yáng)能電池制造等工藝。

砷的形態(tài)：廢水中砷通常以亞砷酸鹽（As(III)）和砷酸鹽（As(V)）形式存在，As(III)的毒性更強(qiáng)且更難去除。

2.處理工藝選擇

化學(xué)沉淀法：

原理：通過(guò)投加鐵鹽（如硫酸鐵、氯化鐵）、鋁鹽或石灰，使砷形成不溶性沉淀（如砷酸鐵、砷酸鈣）。

適用性：適用于高濃度含砷廢水，需控制pH在58之間。

優(yōu)點(diǎn)：成本低、操作簡(jiǎn)單。

缺點(diǎn)：污泥產(chǎn)量大，需妥善處置。

氧化法：

原理：將As(III)氧化為As(V)（如采用次氯酸鈉、雙氧水、臭氧等氧化劑），提高后續(xù)處理效率。

適用性：適用于含As(III)為主的廢水。

吸附法：

材料：活性氧化鋁、鐵基吸附劑（如GFH）、活性炭、納米材料等。

優(yōu)點(diǎn)：高效、選擇性好，適合低濃度廢水。

缺點(diǎn)：吸附劑需定期再生或更換。

離子交換法：

原理：利用陰離子交換樹脂吸附砷酸根離子。

適用性：適用于低濃度、低鹽度廢水。

膜分離技術(shù)：

反滲透（RO）或納濾（NF）：可高效去除砷，但成本較高且易受膜污染影響。

生物法：

原理：利用微生物氧化或吸附砷，目前處于研究階段，工程應(yīng)用較少。

3.典型處理流程

預(yù)處理：

1.調(diào)節(jié)pH：將廢水pH調(diào)至中性或弱酸性（67）。

2.氧化階段：投加氧化劑（如H?O?）將As(III)轉(zhuǎn)化為As(V)。

主處理：

1.化學(xué)沉淀：投加鐵鹽（如FeCl?），生成砷酸鐵沉淀。

2.絮凝沉降：加入PAM（聚丙烯酰胺）助凝，通過(guò)沉淀池或氣浮分離污泥。

深度處理：

1.吸附或離子交換：確保出水砷濃度低于排放標(biāo)準(zhǔn)（如0.01mg/L）。

2.膜過(guò)濾（可選）：進(jìn)一步凈化水質(zhì)。

污泥處理：

沉淀污泥需作為危險(xiǎn)廢物處置，或通過(guò)固化穩(wěn)定化處理。

4.關(guān)鍵設(shè)計(jì)參數(shù)

反應(yīng)時(shí)間：氧化階段需3060分鐘，沉淀階段需12小時(shí)。

藥劑投加量：

Fe/As摩爾比≥3（化學(xué)沉淀）。

氧化劑用量根據(jù)As(III)濃度計(jì)算（如H?O?投加量為As(III)的23倍）。

pH控制：化學(xué)沉淀最佳pH為67，需實(shí)時(shí)監(jiān)控。

5.排放標(biāo)準(zhǔn)與監(jiān)測(cè)

中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)：《電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB397312020）規(guī)定砷排放限值為0.1mg/L（現(xiàn)有企業(yè)）或0.05mg/L（新建企業(yè)）。

在線監(jiān)測(cè)：安裝砷在線分析儀（如原子熒光光譜儀）確保達(dá)標(biāo)。

6.案例與新技術(shù)

案例：某半導(dǎo)體廠采用“氧化+鐵鹽沉淀+活性氧化鋁吸附”組合工藝，出水砷濃度<0.01mg/L。

新技術(shù)：

納米零價(jià)鐵（nZVI）：高效還原吸附砷。

電化學(xué)法：通過(guò)電解產(chǎn)生鐵離子沉淀砷。

7.經(jīng)濟(jì)性與運(yùn)維

成本：化學(xué)沉淀法噸水處理成本約510元，膜技術(shù)成本較高（2030元/噸）。

維護(hù)：定期清理沉淀池、更換吸附劑，監(jiān)測(cè)儀表校準(zhǔn)。

8.注意事項(xiàng)

安全防護(hù)：處理過(guò)程中需防止砷揮發(fā)（如酸性條件下可能生成砷化氫）。

污泥毒性：污泥需按危險(xiǎn)廢物（HW24）管理，避免二次污染。

通過(guò)合理組合上述工藝，可高效去除電子廢水中的砷，滿足嚴(yán)苛的環(huán)保要求。實(shí)際設(shè)計(jì)中需根據(jù)水質(zhì)、水量及成本綜合優(yōu)化方案。